台灣網10月12日訊 據臺灣東森新聞雲報道，蘋果首席設計師Jony Ive在紐約TechFest大會中透露iPhone X的開發秘密。在這次的訪談中，蘋果首席設計師Jony Ive幾乎什麼都聊，他表示設計iPhone的初衷是出於對現況的不滿，他説:“當我們在設計iPhone時，我很大一部分動機是對於我們當時使用手機的厭惡。”Face ID的開發也同樣如此，所以早在iPhone 5s推出指紋辨識的時候，就開始著手開發Face ID。
談到設計，Jony Ive很感謝前執行長Steve Jobs願意放手讓他做，讓他不用擔心銷售數據上的問題，事實上這是讓他和他的團隊能不斷超越設計的原因。他談到一個態度:“你知道星期二沒有什麼想法，這只是星期二。到了星期三有一個想法，即使一開始是團隊當中的某一個人的一個非常暫時而且脆弱的想法...都對於我們的工作來説都非常的重要。”
Jony Ive透露，iPhone許多技術已經花費5年來研發，像是Face ID人臉辨識技術，以及用臉部表情來呈現動態貼圖(Animoji)的這項功能，裏頭提到所使用的TrueDepth相機，一開始開發的原型機是非常巨大的，你幾乎無法想像它可以被應用在手機上，但團隊認為這對於手機發展是有幫助，即便絕大多數的開發時間都是失敗告終，團隊仍相信將臉部辨識放到手機當中的這件事情是正確的。
Jony Ive表示，在開發的過程當中，一定會歷經許多錯誤跟失敗，事實上，可能有超過99%的時間，你都要面臨失敗與錯誤，但他深信這些錯誤絕對不是僅僅從一個懶惰或者自信的過程中發生，這也代表成功將是一件不可避免的事情。
除了Apple iPhone X的Face ID，Jony Ive也分享了自己對工作的態度與許多人生哲學。（台灣網 孫伊靜）
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